光刻胶是微纳米加工过程中非常关键的材料。一些专家说，如果中国想制造芯片，仅仅拥有光刻机是不够的。它必须打破外国对“光致抗蚀剂”的垄断。几天前，西湖大学的邱敏研究小组在《纳米快报》，《纳米尺度》，《应用表面科学》中发表了一系列研究结果。和其他期刊。他们能够雕刻“冰雕”。从精确定位到精确到小至微米甚至纳米。控制雕刻的强度，然后使用“冰雕”。作为制造结构和加工设备的模具，一套“ Ice Engraving 2.0”被制成。三维微纳米处理系统的目标是“晶片，设备输出”。 （原材料输入，成品输出）作为目标已经出现。这项研究与发展显然是非常有希望的，为什么这么说呢？负140摄氏度的真空环境可使水蒸气冷凝成无定形的冰。 “无常”是指“无常”。水蒸气可以包裹任何形状的表面，即使是非常小的样品也没有问题；如果水蒸气很轻，什么也没有，那么就可以对易碎的材料进行处理。对应于“光致抗蚀剂”，他们将水冰的这一层命名为“冰凝胶”，并将涉及冰凝胶的电子束光刻技术命名为“冰雕”。实际上，一旦用冰胶代替光致抗蚀剂，也可以大大简化加工过程，避免胶带清洗造成的污染，以及难以清洗的光致抗蚀剂残渣，导致成品率低下等问题。 “冰雕”只需要将冰融化或升华成水蒸气，就好像这层冰凝胶根本就不存在。在上述团队发表的最新文章的结尾，他们使用了非常科幻的方式来期待“冰雕”的未来。毫无疑问，关于“冰雕”的未来研究将在未来进行。将集中于传统“光刻”所不能达到的领域。能力。受益于水的独特生物相容性，希望“冰雕”能够与水结合。可以实现生物样本上的光子波导或电子电路。