最近，在中国科学院官方网站上发布的一项研究进展表明，该团队开发的新的5nm超高精度激光光刻处理方法后来被解释为对5nm ASML的垄断，相关人士也对此做出了回应。这。根据《财经》杂志的一篇报道，该论文的通讯作者，中国科学院研究员，博士生导师刘谦公开表示，这是一种误解，并且该技术不同于极紫外光刻技术。根据刘谦的说法，如果可以将超高精度激光平版印刷加工技术用于高精度光罩的制造中，有望提高我国光罩的制造水平，这也对光掩模的制造非常有利。减小了现有光刻机芯片的线宽。的。该技术完全独立于知识产权，其成本可能低于目前的水平，并且具有产业化的前景。但是，即使该技术已经商业化，要打破荷兰ASML（ASML）在光刻机上的垄断，仍然需要突破许多核心技术，例如透镜的数值孔径和透镜的波长。光源。据报道，高端口罩仍然是“卡住脖子”。中国的技术。在半导体领域，除了英特尔，三星和台积电的独立制造外，高端掩模主要由Photronics，Dainippon Printing Co.，Ltd.（DNP）和Toppan Printing Co.，Ltd.（Toppan）垄断。在美国。根据第三方市场据研究机构远见产业研究所的数据，这三家公司占全球市场份额的82％。业界一直在尝试另一条技术路线。例如，中国科学家和普林斯顿大学的周瑜于1995年首次提出了纳米压印技术，但仍无法克服商业化的困境。在雕刻机的制造上，中国几乎不可能在一国的强力作用下在极端紫外光刻领域突破ASML的垄断地位。